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二氧化硅精抛液

二氧化硅精抛液是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。可生产不同粒度（10~150 nm）的产品满足用户需求。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。

应用领域：硅、锗、砷化镓、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂、钽酸锂、陶瓷、蓝宝石、金属、玻璃等材料的抛光，以及光纤连接器、硬盘盘片、液晶面板、光学镜头、精密模具表面等产品抛光。适用于各种工件精抛工序。

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详细信息Detailed information

外观	乳白	密度	1.1-1.3 g/mL
PH 值	5~13	环保	不含卤素，符合欧盟RoHS要求

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